材料院学术讲座第07期

材料院第07期学术讲座将于2021年9月9日（周四)10:00-11:30 在电子材料院A栋1楼报告厅进行。本次讲座邀请了善仁（浙江）新材料科技有限公司毛国平博士带来题为“先进光刻胶的材料化学”的报告。诚挚邀请企业代表、科研专家届时参加，共同学习交流！

讲座具体信息如下：

报告人：毛国平 博士

主持人：孙   蓉 院长

日期：2021年9月9日

时间：10:00-11:30

地点：深圳市宝安区福永街道龙王庙工业区深圳先进电子材料国际创新研究院A栋1楼报告厅

Biography

毛国平博士， 1986年毕业于北京大学化学系，1989年在中科院北京化学所获硕士学位，1997年6月在康奈尔大学获博士学位（导师： Prof. Chris Ober）。博士毕业后即加入3M公司研发总部实验室从事先进材料方面的研发工作15年，在3M生产分部（Division）的实验室从事产品开发4年； 在软线路板（LCP)、先进介电材料、双光子3D光刻、微复制、导电铜胶带、及underfill等电子材料等领域，获20项授权美国专利和三项3M商业机密；多次获得3M公司的技术创新优秀奖（Corporate个人奖1次;团队奖3次）。有些技术已产业化，（自2009年起）年销售额超2千万美元;多项技术转移至生产分部。职业生涯共发表论文23篇，被引用次数超3千次。

2016年9月回国，加入江苏汉拓光学材料有限公司（博康集团），负责高端深紫外（DUV）光刻胶的研发特别是产业化，包括树脂的设计合成（母公司提供单体和PAG等辅料）；带领汉拓团队开发了4个系列近20种先进光刻胶产品（KrF;ArF；电子束；封装胶）；同时培养了一大批光刻胶研发骨干；申请中国专利15项。2020年6月加入善仁新材料从事导电胶的开发与产业化。

Abstract

本报告着重介绍芯片用高端光刻胶的材料化学及配方设计基础；重点讨论IBM提出的（1980）化学放大光刻胶的概念及其发展，它是过去40多年来引领光刻胶材料发展的科学之光，也是现代光刻胶不断发展进化的根本原因和基石。

1.摩尔定律与光刻胶市场简介;2.IC光刻胶的发展简史;3.化学放大的概及KrF光刻胶的突破；2013 JapanPrize;4.193及193i（含157）光刻胶的材料化学国内先进光刻胶产业化发展的现状。